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组氨酸/石墨烯修饰玻碳电极循环伏安法测定痕量铜（Ⅱ）
作者: 王斌 黄骏 王洪海 宿迁学院三系 宿迁238000 扬州环境资源职业技术学院 扬州225127
关键词: 循环伏安法 石墨烯 组氨酸 铜(Ⅱ)
摘要：依次用滴涂法和电化学方法将石墨烯和组氨酸修饰在玻碳电极表面,制备了组氨酸/石墨烯修饰的玻碳电极,将该电极用于循环伏安法测定铜（Ⅱ）。由于石墨烯良好的导电性能以及组氨酸的配位吸附效应,铜（Ⅱ）在该修饰电极上的氧化峰电流相对于裸玻碳电极上的显著增大。在最佳条件下,铜（Ⅱ）的浓度在2.30×10^-8~3.06×10^-5 mol·L^-1范围内与其氧化峰电流呈线性关系,测定下限（10S/N）为1.50×10^-9 mol·L^-1。此方法应用于实际样品中痕量铜（Ⅱ）的测定,加标回收率在94.0%~102%之间,测定值的相对标准偏差（n=10）为2.0%,本法测定值与原子吸收光谱法测定值相符。